
PS-PVD 低壓真空等離子噴涂系統(tǒng)
- 概述:鄭州立佳低壓真空等離子噴涂系統(tǒng)基于成熟的真空等離子噴涂技術(shù),結(jié)合創(chuàng)新的混合工藝設(shè)計,致力于生產(chǎn)高性能、高可靠性的功能性涂層。該系統(tǒng)融合了低壓環(huán)境與高能等離子體優(yōu)勢。
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國內(nèi)業(yè)務(wù):13839410231,18638188966
國外業(yè)務(wù):15981997511
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電 話:0371-86102889
郵 箱:zzljrpt@163.com
總部地址:河南省鄭州市高新區(qū)黃楊街與紅楠路交匯東南角立佳表面6號車間
(1) 低壓噴涂環(huán)境:腔室工作壓力范圍寬泛(0.5毫巴至300毫巴),適應(yīng)多種材料工藝需求。
(2) 高能等離子體輸出:等離子體功率可達(dá)150kW,提供穩(wěn)定且高焓值的射流,確保粒子動能充分釋放。
(3) 智能化運動控制:采用六軸數(shù)控機械手與精密夾具系統(tǒng),支持復(fù)雜曲面零件的均勻噴涂,承載重量可達(dá)60kg。
(4) 模塊化真空系統(tǒng):專為低壓高流量氣體設(shè)計,配備快速抽空與循環(huán)冷卻功能,提升工藝效率。
(1) PS-PVD(等離子噴涂-物理氣相沉積):通過氣化原料粉末,沉積形成柱狀晶結(jié)構(gòu),適用于熱障涂層(100-300微米),防高溫性能優(yōu)異。
(2) PS-CVD(等離子噴涂-化學(xué)氣相沉積)結(jié)合氣態(tài)前驅(qū)體與等離子體能量,以高沉積速率生成類CVD薄膜(<10微米),兼具高純度與均勻性。
(3) PS-TF(等離子噴涂-薄膜技術(shù))優(yōu)化射流速度與熱焓參數(shù),實現(xiàn)納米級致密涂層,適用于精密器件表面強化。
(1) 航空航天:渦輪葉片熱障涂層、發(fā)動機部件防腐蝕層。
(2) 能源裝備:燃料電池雙極板導(dǎo)電涂層、核反應(yīng)堆部件防護(hù)層。
(3) 醫(yī)療植入:人工關(guān)節(jié)防磨涂層、生物相容性表面改性。
(4) 工業(yè)精密件:模具表面強化、半導(dǎo)體設(shè)備抗磨損涂層。
(1) 零件裝夾準(zhǔn)備:將需涂裝的零件裝入刺夾具。
(2) 真空環(huán)境營造:關(guān)閉傳送室門,抽真空至初始真空度。
(3) 惰性氣體回填:達(dá)初始真空后,充入高純氬氣至工作壓力。
(4) 表面處理:進(jìn)行零件的 T/A 清洗和涂層沉積。
(5) 冷卻與壓力恢復(fù):零件降溫,回填傳送室至大氣壓力。
(6) 零件卸載完成:壓力正常后,手動或用裝載機卸下零件。
(1) 裝載模式:半自動或全自動工件裝載,適配批量生產(chǎn)與定制化需求。
(2) 過程監(jiān)控:集成在線光譜儀與熱成像儀,實時監(jiān)測涂層質(zhì)量與工藝穩(wěn)定性。
(3) 擴展功能:可選配預(yù)熱腔室、多軸聯(lián)動機械手及定制化噴涂槍頭。
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